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SEN特殊光源中紫外線表面清洗的原理介紹

日期：2025-09-07 10:36

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摘要：

SEN特殊光源有低壓燈，高壓燈， UV清洗燈，UV固化燈，**燈，大型光清洗機，桌上型清洗機，手提式固化機，UV紫外線臭氧**機等各種紫外線臭氧產品。產品主要用于液晶、觸屏、的玻璃基板清洗以及ITO清洗、樹脂固化、塑料、金屬、樹脂、汽車部件的光凈化等行業。

紫外線清洗主要原理為紫外線燈發出的 185nm波長和254nm波長具有很高的能量，高于大多數有機物的結合能量。由于大多數碳氫化合物對185nm波長的紫外線具有較強的吸收能力，并且可以在吸收185nm波長后分解成例子，流利態院子，受激分子和中子等，這就是光敏作用。空氣中的氧分子在吸收了185nm波長的紫外光后，會產生臭氧和氧氣，臭氧對254nm波長具有很強的吸收性，臭氧有可以分解為氧原子和氧氣。氧原子具有極強的氧化性，可以將碳氫化合鍵切斷，生成水，二氧化碳等易揮發氣體，從被照射物表面飄逸出，徹底**物體表面的污染物。這就是紫外線清洗的原理。

清洗法有干洗和濕洗兩種。干洗有UV臭氧清洗，等離子清洗，離子清洗等。濕洗有水洗，堿清洗，酸清洗，液體噴射清洗等。我們日常所熟悉的濕式清洗有可以清洗掉較大范圍污染的優點。但是也會有清洗不掉的污染。同時由于清洗的溶劑會在被清洗物表面殘留，因此對于高精密世界來說也是個污染。

與此相反UV紫外線清洗雖然不能清洗掉大范圍的污染，卻可以清洗到各個角落的就是光洗凈技術（以下簡稱UV臭氧清洗）。在納米技術世界里，雖然看不到有機性污染，但是有機污染在表面形成膜（軟接著層）如果在這層膜上印刷的話，就會出現鮮度惡化以及針孔等障礙。UV臭氧清洗可以去除的污染有有機化合物以及含有油脂的污染等。

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