欧洲成人在线,国产成人av一区二区三区无码,狠狠狠狠狠干

搜索

熱門搜索：

代理日本品牌：OTSUKA大塚電子（薄膜測厚儀、相位差膜設備等）、USHIO牛尾點光源、CCS檢查光源、Aitec艾泰克、REVOX萊寶克斯、ONOSOKKI小野測器、YAMATO雅馬拓、KOSAKA小坂臺階儀、SEN特殊光源、TSUBOSAKA壺坂電機、NEWKON新光、TOKISANGYO東機產業、tokyokeiso東京計裝、leimac雷馬克、MIKASA米卡薩勻膠機、COSMO科斯莫、SAKURAI櫻井無塵紙、TOE東京光電子、EYE巖崎UV燈管、SANKO山高、HOYA豪雅光源、日本IMV愛睦威地震儀、HOKUYO北陽電機、SAKAGUCHI坂口電熱、ThreeBond三鍵膠水等.

產品中心

所在位置: 首頁> 產品目錄> DNK科研> 光刻機曝光機>

產品詳情

查看大圖

產品名稱：日本DNK科研曝光機MA-4301M光刻機
產品型號： MA-4301M
產品廠商：DNK 科研
產品價格：0
折扣價格：0
產品文檔：

你添加了1件商品查看購物車

簡單介紹：

主要特長利用本公司開創的高速圖像處理技術, 實現了Wafer與掩膜的高精度對位。裝載機側和卸載機側*多可設置兩個籃具（選購項）。備有冷卻機構，可進行基板臺與掩膜的溫度管理（選購項）。搭載本公司開創的鏡面光學系統爆光燈房（LAMP HOUSE）。從而實現了照射面內的均勻性以及高照度。搭載非接觸預對位系統（PREALIGNER）。從而實現了高精度進給且保證基板不受任何損傷。搭載有自動掩膜更換機。并可支持掩膜存放庫。

詳情介紹：

光刻機介紹

曝光裝置 MA-1200 基板追大尺寸 200 x 200mm ?4″ ～ ?6″

光源超高壓水銀燈：500W or 1kW

曝光裝置 MA-1400 基板追大尺寸400 x 400mm

光源超高壓水銀燈：2kW or 3.5kW

LED,LN曝光裝置MA-4000 圓晶尺寸?2～4″或者?4～6″

光源超高壓汞燈：500W 或 1kW

?200mm/?150 mm 對應曝光裝置MA-4301M 材料SI 玻璃， 對齊精度自動對齊：+/- 1 μm（
峰值搜索）

?300mm對應曝光裝置MA-5301ML 光源超高壓汞燈：3.5kW ?200mm規格也可對應

マスクレス露光裝置MX-1201 曝光掃描速度43.94mm/s 有效曝光區域200 x 200 追大曝光量（※3）245/70/245+70
マスクレス露光裝置MX-1201E 曝光掃描速度22.5mm/s 有效曝光區域200 x 200 追大曝光量（※3）460/70135

マスクレス露光裝置MX-1205 曝光掃描速度9/4.5mm/s 有效曝光區域100 x 100 追大曝光量（※3）100/50

主要規格

		MA-4301M
Wafer尺寸	材料	Si,Glass
	尺寸	Φ6″ x t0.625 mm(6″ = Φ150 mm) +/- 0.2 mm
	尺寸	Φ8″ x t0.725 mm(8″ = Φ200 mm) +/- 0.2 mm
節拍時間		Proximity exposure：19 s/wafer (One parallelism compensation per lot)
對位精度		自動對位：+/- 1 μm (Peak search)
間隙		1 to 200 μm Servo motor Setup resolution：1 μm
曝光方式		Soft contact exposure Hard contact exposure Proximity exposure
尺寸?重量		本體尺寸：W 1800 x D 1650 x H 2015 mm 總重量(including lamp house)：1400 kg

產品留言

標題

聯系人

聯系電話

內容

驗證碼

點擊換一張

注：1.可以使用快捷鍵Alt+S或Ctrl+Enter發送信息!
2.如有必要,請您留下您的詳細聯系方式!

蘇公網安備 32050502000409號

產品名稱：日本DNK科研曝光機MA-4301M光刻機

主要規格