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產品詳情
簡單介紹：
雖然設計緊湊，可
沉積到 ±8 英寸晶圓上，但樣品為 ±3 英寸晶圓，可同時沉積 5 個晶圓，4 英寸晶圓可同時形成 3 個薄膜，1 個 ±8 英寸晶圓可以沉積。
詳情介紹：
概述
PD-220NL 是一種負載鎖定設備，基于 PD-220 系列等離子 CVD 設備的經驗而開發，該設備具有豐富的交付記錄。 該裝置設計緊湊，但基板有效直徑為±220mm，通過托盤輸送，可同時形成多個小直徑晶圓。 我們旨在形成各種硅薄膜（SiO+、SiN 等），可處理從尖 端研究到大規模生產的各種應用。
特點
雖然設計緊湊，可
沉積到 ±8 英寸晶圓上，但樣品為 ±3 英寸晶圓，可同時沉積 5 個晶圓，4 英寸晶圓可同時形成 3 個薄膜，1 個 ±8 英寸晶圓可以沉積。
配備負載
鎖定室，可實現穩定的過程。
應用示例
可以形成
氮化硅膜、氧化硅膜和非晶硅膜，形成各種硅基薄膜。
選項
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